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ナノセカンドファイバーレーザー JenLas® ファイバー ns 20 – 70

ナノセカンドレーザーはラベリング、マーキング、切断およびドリル素材に好適です。 

JenLas ファイバーレーザー ns

The nanosecond pulsed fiber laser JenLas® fiber ns 20 – 70は、より精密で広範囲のレーザー加エアプリケーションを実現します:このナノレーザーは、ラベリングマーキング切断および穿孔加工に好適です。例えば、JenLas® ファイバー ns 20 – 70 は、非常に高い精度の薄層除去あるいはシリコンのドリルに使用することができます。

ナノレーザーは私たちの信頼性に優れたファイバーレーザーテクノロジーに基づいています。空冷式で、3 から 500 ナノ秒パルス持続時間を設定でき、またバージョンにより最大20 キロワットのピークパルス電力に達します。

スタンダードモデルでは、JenLas® ファイバー ns ナノセカンドレーザーの出力クラスは 20、50、70 ワットです。様々な出力段階に加えて、さらにこれらのレーザーは追加制御オプションもご利用いただけます。レーザーはCW操作にも使用できます。また、パルス幅は様々なモードで変更することができます。このナノセカンドレーザーのパルス繰り返し率は、最大 メガヘルツです。

または、ベーシックモデルもご利用いただけます。このモデルは、出力クラス20 ワットでモジュレーションを行うことができ、範囲は1 から 200 キロヘルツです。これらのナノセカンド・レーザーでは、調整可能なモードの種類とパルス幅は最もベーシックなもののみに集中しています。これは、さらにハードウェア制御部にも当てはまります。

さらに、広範囲のビーム拡張アクセサリーもご用意しています。

利点

  • 高度アプリケーション:ナノセカンドファイバーレーザーは、レーザー加エの可能性を広げます。
  • 様々なパフォーマンスタイプ:あなたの業務にぴったり適したパフォーマンスを選択するためにベーシックおよびスタンダード・モデルからお選びください。

アプリケーション分野

  • ミクロ材料加工:ラベリング、マーキング、切断および穿孔加工に好適です。
  • 太陽光発電産業:スコアリング、薄層の除去、シリコンウェーハの処理。

ファイバーレーザーのアプリケーション例 

ファイバーレーザー JenLas® ファイバー ns のデータシートのダウンロード

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